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    網站首頁  ◇  產品展示    ◇   ◇   石墨烯薄膜制備設備 > LFT1400C 800D802ZZnO納米材料生長
    ZnO納米材料生長

    更新時間:  2025-01-14

    產品型號:  LFT1400C 800D802Z

    產品報價:  

    所  在  地:  合肥市新站區穎河路22號

    產品特點:  ZnO納米材料生長設備,由氣體流量計控制系統、液體注液系統、多段溫度可控多區生長系統、水冷卻系統、碳納米線或膜收集系統,紅外烘干系統組成。

    (聯系我時,請說明是在化工儀器網上看到的信息,謝謝!)
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    產品概述

    一、設備特點

     碳納米膜制備設備由氣體質量流量計控制系統、液體注液系統、多段溫度可控多區生長系統、水冷卻系統、碳納米線或膜收集系統,紅外烘干系統等組成。生長爐的最高溫度1400℃,并可在0-1400℃之間連續可調,垂直式分布熱場,三點控溫(三段長度平均分配),設備頂部設有注液口、導流器。爐體采用雙層殼體結構并帶有風冷系統,保溫材料為加厚型,殼體表面溫度小于60℃。采用高純氧化鋁管作為爐膛材料,加熱元件為優質硅碳棒。測溫采用適用于高溫環境的“S”型熱電偶,直接和式樣接觸,以提高控溫的精確性。本款碳納米管或膜CVD設備可以實現連續生長不間斷的特點。

    二、技術參數

    型號

    LFT1400C 800D802Z

    額定功率

    20KW(參考)

    額定電壓

    AC220V 50/60HZ

    最高溫度

    1400℃

    額定溫度

    1300℃

    推薦升溫速率

    200℃以下≤5℃/min,200-1400℃以下≤10℃/min,1400℃到1600℃≤5℃/min

    爐管尺寸

    (可根據客戶要求訂制)

    Φ80× 1400mm(剛玉管)

    控溫精度

    ±1℃

    極限真空度(選件)

    1.0×10-3Pa(機械泵+分子泵)

    加熱元件

    硅碳棒

    重量

    230KG(參考)

     

     

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